原因:多见于下牙槽神经口内阻滞麻醉时,由于注射针偏向后内越过下颌升支后缘,或偏上超过乙状切迹,而致局麻药注入腮腺内麻醉面神经而发生暂时性面瘫。
症状:主要表现为同侧面神经支配区域不同程度瘫痪,如口角偏斜、鼓腮漏气、鼻唇沟变浅等。
防治原则:应掌握解剖结构和注射标志,熟练技术操作。已发生面瘫,待麻药作用消失后,神经功能即可恢复,无需特殊处理。
原因:多见于下牙槽神经口内阻滞麻醉时,由于注射针偏向后内越过下颌升支后缘,或偏上超过乙状切迹,而致局麻药注入腮腺内麻醉面神经而发生暂时性面瘫。
症状:主要表现为同侧面神经支配区域不同程度瘫痪,如口角偏斜、鼓腮漏气、鼻唇沟变浅等。
防治原则:应掌握解剖结构和注射标志,熟练技术操作。已发生面瘫,待麻药作用消失后,神经功能即可恢复,无需特殊处理。
原因:多见于下牙槽神经口内阻滞麻醉时,由于注射针偏向后内越过下颌升支后缘,或偏上超过乙状切迹,而致局麻药注入腮腺内麻醉面神经而发生暂时性面瘫。
症状:主要表现为同侧面神经支配区域不同程度瘫痪,如口角偏斜、鼓腮漏气、鼻唇沟变浅等。
防治原则:应掌握解剖结构和注射标志,熟练技术操作。已发生面瘫,待麻药作用消失后,神经功能即可恢复,无需特殊处理。